一、如何繪制校準(zhǔn)曲線

1. 配制標(biāo)準(zhǔn)溶液

按照分析物的濃度范圍需求，配制一系列不同濃度的標(biāo)準(zhǔn)溶液，通常5–7個(gè)濃度點(diǎn)為宜。

濃度分布應(yīng)覆蓋樣品中可能出現(xiàn)的低、中、高值。

2. 進(jìn)樣測(cè)定

各標(biāo)準(zhǔn)溶液分別按照正常分析流程進(jìn)樣，記錄峰面積（或峰高）；最好每點(diǎn)重復(fù)進(jìn)樣2–3次。

3. 作圖 & 擬合方程

橫坐標(biāo)（X軸）：標(biāo)準(zhǔn)溶液的濃度，單位如mg/L、μg/ml等。

縱坐標(biāo)（Y軸）：對(duì)應(yīng)的峰面積或峰高（儀器響應(yīng)值）。

使用Excel、Origin等軟件繪制散點(diǎn)圖，并用線性回歸（常用y=bx+a）或其它適合的函數(shù)進(jìn)行擬合，得到回歸方程和相關(guān)系數(shù)（R2）。

二、如何判斷校準(zhǔn)曲線是否合格

1. 線性相關(guān)系數(shù)（R2或r）

最常用的評(píng)價(jià)指標(biāo)。R2（決定系數(shù)）越接近1，線性越好。

通常要求 R2 ≥ 0.99，有些法規(guī)要求更高或可略放寬（如≥0.995、≥0.998等）；低于0.99需查明原因。

2. 殘差分析

檢查各點(diǎn)實(shí)際響應(yīng)與回歸預(yù)測(cè)值之差（殘差）。

殘差呈隨機(jī)分布且絕對(duì)值較小為佳。如果某點(diǎn)殘差特別大，說(shuō)明該點(diǎn)異?；蛴胁僮魇д`。

3. 靈敏度和線性范圍

響應(yīng)（如峰面積）與濃度的比值應(yīng)在所有濃度區(qū)間基本一致（即斜率基本穩(wěn)定）。

線性區(qū)間外，響應(yīng)不隨濃度等比例增加，不能盲目納入。

4. 空白響應(yīng)Vs. 檢測(cè)下限

校準(zhǔn)曲線低濃度端應(yīng)高于空白響應(yīng)及方法檢出限，避免虛假“線性”。

5. 重復(fù)性

同一濃度多次進(jìn)樣，RSD應(yīng)一般低于2%~5%，表示方法本身變異小。

6. 強(qiáng)制通過(guò)零點(diǎn)？

如果儀器確實(shí)存在本底響應(yīng)，不宜強(qiáng)制通過(guò)零點(diǎn)；多數(shù)化學(xué)分析以“y = bx + a”形式（有截距）。

部分要求（如藥典），低濃度本底接近零可通過(guò)零點(diǎn)擬合。

7. 法規(guī)與規(guī)范要求

仔細(xì)查閱方法標(biāo)準(zhǔn)、藥典、食品安全法規(guī)等（如中國(guó)藥典、USP、EPA方法等），遵循執(zhí)業(yè)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)R2、點(diǎn)數(shù)及其它指標(biāo)的要求。

三、簡(jiǎn)單判斷流程圖

R2 是否合格？

是—> 下一步

否—> 調(diào)整方法或重做標(biāo)準(zhǔn)

擬合點(diǎn)是否均勻分布，殘差無(wú)明顯異常？

是—> 下一步

否—> 查找出錯(cuò)濃度點(diǎn)

重復(fù)性好？（RSD合格）

是—> 下一步

否—> 檢查儀器或操作過(guò)程

線性區(qū)域范圍是否包含樣品濃度？

是—> 合格

否—> 增加濃度點(diǎn)或縮小分析范圍